信和光柵尺：精密位移測量的“光學標尺”

在數控機床、精密測量儀器、電子制造設備、半導體光刻機等對超高精度、高分辨率、高速度有嚴苛要求的領域，光柵尺是閉環位置控制系統中應用的反饋元件。它利用光學的莫爾條紋原理，將機械位移轉化為高精度的數字信號。在眾多品牌中，信和作為光柵制造商之一，其光柵尺產品以其精度、分辨率、優異的信號質量和可靠性，成為精密設備實現納米級定位控制的核心“光學標尺”。

一、核心原理：光的干涉與莫爾條紋

光柵尺的測量基礎是光柵副產生的莫爾條紋：

1.光柵尺：系統的“尺身”。通常是一根玻璃尺或鋼帶尺，其表面通過光刻工藝制作了納米級精度的、等間距的明暗相間刻線（柵線）。常見柵距有20μm、40μm等。

2.讀數頭：系統的“眼睛”。內部包含光源、指示光柵和光電接收元件。指示光柵上有與主光柵尺柵距相同但略有傾斜的刻線。

3.莫爾條紋與信號產生：

?當讀數頭沿光柵尺移動時，主光柵與指示光柵的刻線產生相對移動，由于光的干涉和衍射，會在指示光柵后方產生明暗相間的莫爾條紋。莫爾條紋的間距遠大于光柵柵距。

?光電元件（通常是四相硅光電池）檢測莫爾條紋的明暗變化，輸出相位相差90°的正弦和余弦信號。

?通過電子細分技術，對一個柵距內的正弦波信號進行高倍細分（如2048倍、4096倍），可將分辨率提高至納米級（如將20μm柵距細分為0.01μm，即10nm）。

?通過比較兩路正弦信號的相位關系，還可判斷移動方向。

二、信和光柵尺的技術精粹

信和憑借其深厚的光學設計和制造底蘊，在以下方面表現突出：

1.精度與極低的細分誤差：

?先進的刻線工藝：采用激光干涉光刻等技術制造光柵尺，確保柵距的均勻性和直線度達到水平，從而保證了系統精度（如±3μm/m,±5μm/m）。

?優異的信號質量：讀數頭輸出的正弦/余弦信號正交性好、諧波失真小、直流電平漂移小。這為后續電子細分提供了原始信號，是實現高分辨率、低細分誤差和高速度響應的基礎。

2.高可靠性與環境適應性：

?密封設計：讀數頭和光柵尺采用接觸式或非接觸式密封，可達到IP53、IP64等防護等級，能有效防油、防塵、防濺水。

?熱穩定性：提供零膨脹玻璃基底或低膨脹合金基底的光柵尺，與鋼制膨脹補償光柵尺，以匹配不同機床（鋼、鑄鐵）的熱膨脹系數，減少熱誤差。

?抗污染：讀數頭與光柵尺之間的間隙較大（可達1mm），對油污、灰塵的容忍度比某些緊湊型設計更高。

3.豐富的產品線：

?開放式光柵尺：精度高，成本相對較低，但需用戶自行加裝防護。

?封閉式光柵尺：自帶密封外殼，防護等級高，安裝簡便。

?絕對式光柵尺：除了增量位置，還能提供絕對位置編碼，開機無需回零，適用于需要防止斷電位置丟失或冗余安全的應用。

三、核心應用與價值

1.高精度數控機床：是加工中心、數控磨床、坐標鏜床、數控車床實現微米級甚至亞微米級加工精度的關鍵保證。

2.精密測量設備：三坐標測量機、激光干涉儀、影像測量儀的核心長度基準。

3.半導體與電子制造：光刻機、探針臺、晶圓切割機、PCB鉆床等，對納米級定位和高速響應要求。

4.科學儀器：同步輻射光源、天文望遠鏡等需要超長行程、超高精度定位的裝置。

從制造芯片的納米級電路，到加工航空航天器的精密部件，再到檢驗微觀世界的幾何尺寸，其背后都離不開信和光柵尺所定義的精準空間坐標。它不僅是機器的“眼睛”，更是現代精密工程實現極限性能的基石，是驅動制造業向更高、更精、更尖方向發展的核心“光學度量衡”。